AMAT 0010-54703 Sistema Reflexion® LK CMP

AMAT 0010-54703 Sistema Reflexion® LK CMP

Introduzione al prodotto

• Descrizione: Il sistema Reflexion LK CMP di Applied Materials è una piattaforma leader di planarizzazione chimico-meccanica (CMP) da 300 mm, ottimizzata per prestazioni e produttività in applicazioni CMP in tre fasi.
• Caratteristiche: incorpora tecnologie avanzate di lucidatura, pulizia e asciugatura. Include un'esclusiva piattaforma di lucidatura sequenziale a tre piastre e un pulitore Desica® post-CMP integrato con tecnologia di essiccazione a vapore Marangoni™ per ridurre al minimo i difetti di filigrana e la contaminazione da particelle.

Specifiche tecniche

• Piattaforma : 300mm CMP
• Lucidatura: lucidatura sequenziale a tre piastre
• Pulizia: detergente Desica® post-CMP integrato
• Tecnologia di asciugatura: asciugatura a vapore Marangoni™
• Metodi endpoint: sistemi di controllo dei profili e degli endpoint in situ FullVision® XE e RTPC XE
• Metrologia: metrologia in linea e funzionalità avanzate di controllo del processo
• Controllo in tempo reale: tecnologia brevettata window-in-pad per un accurato controllo della lucidatura in tempo reale
• Tecnologia di rilevamento: spettroscopia a banda larga o rilevamento di correnti parassite a effetto Hall

I nostri servizi

1、 Tutti i nostri prodotti sono nuovi, originali e di buona qualità.

2. I nostri prezzi sono molto competitivi.

3、  Abbiamo una grande quantità in magazzino, quindi possiamo aiutare i clienti a ottenere i componenti difficili da ottenere.

4、  Tutte le richieste verranno valutate e risponderemo entro 24 ore.

5. Spedizione veloce e buon servizio post-vendita

6、  Spediremo gli articoli entro 1-3 giorni lavorativi dalla ricezione del pagamento.

7. Un buon imballaggio per proteggere i prodotti.  

Imballaggio e consegna

1) Sigillo di fabbrica originale e nuovo di zecca al 100%!

2)Garanzia: 1 anno

3) Confezione: Imballaggio originale con cartoni.

4)Tempi di consegna: spedito in 3-7 giorni dopo il pagamento
 

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