AMAT 0010-59789 PECVD-Reaktor (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition).

Der AMAT 0010-59789 ist ein von Applied Materials (AMAT) entwickelter PECVD-Reaktor (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). Diese Ausrüstung ist für verschiedene Halbleiterfertigungsprozesse unerlässlich und ermöglicht eine präzise Kontrolle der Materialabscheidung und Oberflächenbehandlungen.

Hauptmerkmale:

• Zylindrische Vakuumkammer aus Aluminiumlegierung: Gewährleistet eine stabile und kontrollierte Umgebung für Abscheidungsprozesse.
• Edelstahlwände: Bietet Haltbarkeit und Korrosionsbeständigkeit.
• Gasverteiler: Erleichtert die präzise Lieferung von Prozessgasen.
• PC-Controller: Integriert in ein Schrottmanagementsystem für einen effizienten Betrieb.
• Vielseitigkeit: Geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Glühen, Oxidation, Ätzen und Abscheiden von harten und weichen Materialien.

Technische Spezifikationen:

• Abmessungen: 135 x 186 x 119 mm
• Gewicht: 1,2 kg

Anwendungen:

• Materialabscheidung: Ideal für die Abscheidung dünner Schichten verschiedener Materialien auf Substraten.
• Oberflächenbehandlung: Wird in Prozessen verwendet, die präzise Oberflächenmodifikationen erfordern.
• Halbleiterfertigung: Unverzichtbar für die Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente durch kontrollierte Abscheidungs- und Behandlungsprozesse.

Unsere Dienstleistungen

1、 Alle unsere Produkte sind neu und original und von guter Qualität.

2. Unsere Preise sind sehr wettbewerbsfähig.

3、  Wir haben eine große Menge auf Lager, sodass wir den Kunden helfen können, die Komponenten zu besorgen, die schwer zu bekommen sind.

4、 Alle Anfragen werden bewertet und innerhalb von 24 Stunden beantwortet.

5. Schneller Versand und guter Kundendienst

6、  Wir versenden die Artikel innerhalb von 1-3 Werktagen nach Zahlungseingang.

7. Gute Verpackung zum Schutz der Produkte.  

Verpackung & Lieferung

1) 100 % brandneu und mit Original-Werkssiegel!

2)Garantie: 1 Jahr

3) Verpackung: Originalverpackung mit Kartons.

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