AMAT 0010-54703 Sistema Reflexion® LK CMP

AMAT 0010-54703 Sistema Reflexion® LK CMP

Introducción del producto

• Descripción: El sistema Reflexion LK CMP de Applied Materials es una plataforma líder de planarización mecánica química (CMP) de 300 mm, optimizada para el rendimiento y la productividad en aplicaciones CMP de tres pasos.
• Características: Incorpora tecnologías avanzadas de pulido, limpieza y secado. Incluye una exclusiva plataforma de pulido secuencial de tres platos y un limpiador Desica® post-CMP integrado con tecnología de secado por vapor Marangoni™ para minimizar los defectos de marcas de agua y la contaminación por partículas.

Especificaciones técnicas

• Plataforma : CMP de 300 mm
• Pulido: Pulido secuencial de tres platos
• Limpieza: Limpiador integrado post-CMP Desica®
• Tecnología de secado: secado por vapor Marangoni™
• Métodos de punto final: sistemas de control de perfiles y puntos finales in situ FullVision® XE y RTPC XE
• Metrología: metrología en línea y capacidades avanzadas de control de procesos
• Control en tiempo real: tecnología patentada de ventana en almohadilla para un control preciso del pulido en tiempo real
• Tecnología de detección: espectroscopia de banda ancha o detección de corrientes parásitas de efecto Hall

Nuestros servicios

1 、 Todos nuestros productos son nuevos, originales y de buena calidad.

2 、 Nuestros precios son muy competitivos.

3、 Tenemos una gran cantidad en stock, por lo que podemos ayudar a los clientes a conseguir los componentes que son difíciles de conseguir.

4、 Todas las consultas serán valoradas y respondidas en 24 horas.

5、  Envío rápido y buen servicio postventa

6、  Enviaremos los artículos dentro de 1 a 3 días hábiles después de recibir el pago.

7 、 Buen paquete para proteger los productos.  

Embalaje y entrega

1) ¡Sello de fábrica 100% nuevo y original!

2)Garantía: 1 año

3) Paquete: Embalaje original con cajas de cartón.

4) Plazo de entrega: enviado en 3-7 días después del pago
 

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