Reactor AMAT 0010-59789 PECVD (deposición química de vapor mejorada por plasma)

El AMAT 0010-59789 es un reactor PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) diseñado por Applied Materials (AMAT). Este equipo es esencial para diversos procesos de fabricación de semiconductores, ya que proporciona un control preciso sobre la deposición de materiales y los tratamientos superficiales.

Características clave:

• Cámara de vacío cilíndrica de aleación de aluminio: Garantiza un entorno estable y controlado para los procesos de deposición.
• Paredes de Acero Inoxidable: Proporciona durabilidad y resistencia a la corrosión.
• Colectores de Gas: Facilita la entrega precisa de gases de proceso.
• Controlador de PC: Integrado con un sistema de gestión de desechos para una operación eficiente.
• Versatilidad: Adecuado para una amplia gama de aplicaciones que incluyen recocido, oxidación, grabado y deposición de materiales duros y blandos.

Especificaciones técnicas:

• Dimensiones: 135 x 186 x 119 mm
• Peso: 1,2 kilogramos

Aplicaciones:

• Deposición de materiales: Ideal para depositar películas delgadas de diversos materiales sobre sustratos.
• Tratamiento Superficial: Se utiliza en procesos que requieren modificaciones superficiales precisas.
• Fabricación de semiconductores: Esencial para crear dispositivos semiconductores de alta calidad mediante procesos controlados de deposición y tratamiento.

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Embalaje y entrega

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