AMAT 0041-75950 Reactor de deposición química de vapor (CVD) de zona única

Reactor CVD de zona única AMAT 0041-75950

Descripción del Producto

• Tipo : Reactor CVD de zona única
• Aplicación: Deposita películas delgadas de alta calidad
• Procesos : térmicos o de plasma

Especificaciones técnicas

• Control de temperatura : 0 - 1000 °C
• Flujo de gas : baja turbulencia
• Puerta elevadora: accionada hidráulicamente
• Dimensiones : 135 x 186 x 119 mm
• Peso : 1,2 kilos

Nuestros servicios

1 、 Todos nuestros productos son nuevos, originales y de buena calidad.

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7 、 Buen paquete para proteger los productos.  

Embalaje y entrega

1) ¡Sello de fábrica 100% nuevo y original!

2)Garantía: 1 año

3) Paquete: Embalaje original con cajas de cartón.

4) Plazo de entrega: enviado en 3-7 días después del pago
 

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