Réacteur AMAT 0010-59789 PECVD (dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma)

L'AMAT 0010-59789 est un réacteur PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) conçu par Applied Materials (AMAT). Cet équipement est essentiel pour divers processus de fabrication de semi-conducteurs, permettant un contrôle précis du dépôt de matériaux et des traitements de surface.

Principales caractéristiques:

• Chambre à vide cylindrique en alliage d'aluminium : assure un environnement stable et contrôlé pour les processus de dépôt.
• Murs en acier inoxydable : Offrent durabilité et résistance à la corrosion.
• Collecteurs de gaz : facilite la distribution précise des gaz de procédé.
• Contrôleur PC : intégré à un système de gestion des déchets pour un fonctionnement efficace.
• Polyvalence : convient à une large gamme d'applications, notamment le recuit, l'oxydation, la gravure et le dépôt de matériaux durs et mous.

Spécifications techniques:

• Dimensions : 135 x 186 x 119 mm
• Poids : 1,2 kg

Applications:

• Dépôt de matériaux : Idéal pour déposer des films minces de divers matériaux sur des substrats.
• Traitement de surface : utilisé dans les processus nécessitant des modifications de surface précises.
• Fabrication de semi-conducteurs : essentiel pour créer des dispositifs semi-conducteurs de haute qualité grâce à des processus de dépôt et de traitement contrôlés.

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Emballage et livraison

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