AMAT 0041-75950 Réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à zone unique

Réacteur CVD à zone unique AMAT 0041-75950

Description du produit

• Type : Réacteur CVD à zone unique
• Application : Dépôt de films minces de haute qualité
• Procédés : Thermique ou plasma

Spécifications techniques

• Contrôle de la température : 0 - 1000°C
• Écoulement de gaz : Faible turbulence
• Porte élévatrice : actionnée hydrauliquement
• Dimensions : 135 x 186 x 119 mm
• Poids : 1,2 kg

Nos services

1. Tous nos produits sont neufs, originaux et de bonne qualité.

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6、 Nous expédierons les articles dans un délai de 1 à 3 jours ouvrables après réception du paiement.

7、 Bon emballage pour protéger les produits.  

Emballage et livraison

1) sceau d'usine 100% neuf et original!

2)Garantie : 1 an

3) Paquet : Emballage original avec des cartons.

4)Délai de livraison : expédié dans 3 à 7 jours après le paiement
 

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