AMAT 0010-23014 Produttore Riscaldatore Ceramico

Caratteristiche principali:

• Controllo preciso della temperatura: garantisce temperature estremamente precise e costanti, ottimizzando i risultati del processo.
• Distribuzione uniforme del calore: riscalda uniformemente l'intera superficie del wafer, prevenendo variazioni di temperatura.
• Riscaldamento e raffreddamento rapidi: regola rapidamente la temperatura per soddisfare le esigenze di processo dinamiche.
• Durabilità: costruito per resistere agli ambienti difficili della produzione di semiconduttori.

Specifiche tecniche:

• Dimensioni: 135 x 186 x 119 mm
• Peso: 1,2 kg

Applicazioni:

• Ricottura: modifica le proprietà dei materiali semiconduttori attraverso il riscaldamento e il raffreddamento controllati.
• Ossidazione: crea in modo efficiente strati protettivi di ossido sui wafer di silicio.
• Deposizione chimica da vapore (CVD): deposita con precisione sottili strati di materiale sulla superficie del wafer.
• Epitassia: supporta la crescita di strati monocristallini di alta qualità su substrati semiconduttori.

I nostri servizi

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6、  Spediremo gli articoli entro 1-3 giorni lavorativi dalla ricezione del pagamento.

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Imballaggio e consegna

1) Sigillo di fabbrica originale e nuovo di zecca al 100%!

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3) Confezione: Imballaggio originale con cartoni.

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