AMAT 0010-59787 PECVD (Deposizione chimica in fase vapore potenziata dal plasma)

AMAT 0010-59787 Reattore PECVD

• Uniformità di deposizione: fornisce un'eccellente uniformità nel processo di deposizione.
• Spessore dello strato: garantisce uno spessore uniforme dello strato su tutto il substrato.
• Finestra di elaborazione: offre un'ampia finestra di elaborazione, rendendolo versatile per varie applicazioni.
• Controller: dotato di un controller di facile utilizzo che include funzionalità di registrazione dei dati e controllo del processo.

I nostri servizi

1、 Tutti i nostri prodotti sono nuovi, originali e di buona qualità.

2. I nostri prezzi sono molto competitivi.

3、  Abbiamo una grande quantità in magazzino, quindi possiamo aiutare i clienti a ottenere i componenti difficili da ottenere.

4、  Tutte le richieste verranno valutate e risponderemo entro 24 ore.

5. Spedizione veloce e buon servizio post-vendita

6、  Spediremo gli articoli entro 1-3 giorni lavorativi dalla ricezione del pagamento.

7. Un buon imballaggio per proteggere i prodotti.  

Imballaggio e consegna

1) Sigillo di fabbrica originale e nuovo di zecca al 100%!

2)Garanzia: 1 anno

3) Confezione: Imballaggio originale con cartoni.

4)Tempi di consegna: spedito in 3-7 giorni dopo il pagamento
 

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