Reattore AMAT 0010-59789 PECVD (deposizione chimica in fase vapore potenziata al plasma)

L'AMAT 0010-59789 è un reattore PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) progettato da Applied Materials (AMAT). Questa apparecchiatura è essenziale per vari processi di produzione di semiconduttori, fornendo un controllo preciso sulla deposizione del materiale e sui trattamenti superficiali.

Caratteristiche principali:

• Camera a vuoto cilindrica in lega di alluminio: garantisce un ambiente stabile e controllato per i processi di deposizione.
• Pareti in acciaio inossidabile: garantiscono durata e resistenza alla corrosione.
• Collettori del gas: facilita l'erogazione precisa dei gas di processo.
• Controller PC: integrato con un sistema di gestione degli scarti per un funzionamento efficiente.
• Versatilità: adatto per un'ampia gamma di applicazioni tra cui ricottura, ossidazione, incisione e deposizione di materiali sia duri che morbidi.

Specifiche tecniche:

• Dimensioni: 135 x 186 x 119 mm
• Peso: 1,2 kg

Applicazioni:

• Deposizione materiale: ideale per depositare film sottili di vari materiali su substrati.
• Trattamento superficiale: utilizzato in processi che richiedono modifiche superficiali precise.
• Produzione di semiconduttori: essenziale per creare dispositivi a semiconduttori di alta qualità attraverso processi di deposizione e trattamento controllati.

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