AMAT 0010-59787 PECVD (deposição química de vapor aprimorada por plasma)

Reator PECVD AMAT 0010-59787

• Uniformidade de Deposição: Proporciona excelente uniformidade no processo de deposição.
• Espessura da camada: Garante uma espessura de camada uniforme em todo o substrato.
• Janela de Processamento: Oferece uma ampla janela de processamento, tornando-o versátil para diversas aplicações.
• Controlador: Equipado com um controlador fácil de usar que inclui registro de dados e recursos de controle de processo.

Nossos serviços

1、 Todos os nossos produtos são novos e originais e de boa qualidade.

2、 Nossos preços são muito competitivos.

3、 Temos uma grande quantidade em estoque, então podemos ajudar os clientes a obter os componentes que são difíceis de obter.

4、 Todas as perguntas serão avaliadas e responderão em 24 horas.

5、  Envio rápido e bom serviço pós-venda

6、  Enviaremos os itens dentro de 1 a 3 dias úteis após o recebimento do pagamento.

7、Bom pacote para proteger os produtos.  

Embalagem e entrega

1) selo de fábrica 100% novo e original!

2)Garantia: 1 ano

3) Pacote: Embalagem original com caixas.

4) prazo de entrega: enviado em 3-7 dias após o pagamento
 

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1) TRICONEX(8111.3008.3625.3805E.3721.3700A 4351B...)

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3) HIMA(F3330,F3236,F6217,F7126,F8621A....)

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6) ABB (DSQC, BAILEY .....)

7) GE(IC693,IC697,IC695,IS200,DS200) 

8) BACHMANN(CM202,DI232,MPC240,NT255,AIO288...)

9) ICS (T8403,T8431...)

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